国产duv光刻机出来了，中芯国际是否能在一年内达到10-7nm左右的等效工艺？或者?

如果浸润式原理，也就是启尔机电的浸润系统解决了，制程，也就是工艺精度就要看华卓精科的双工件台套刻精度能达到什么水平了。阿斯麦现在最先进的2100i，套刻精度误差不超过1纳米。最高可以制作晶体管密度等效7～5纳米制程的芯片。估计现在国产duv-i光刻机，套刻精度应该能达到阿斯麦1980i的水平。